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                                              當前位置:首頁   >  產品中心  >    >  OLD  >  IPS原子沉積系統ALD

                                              原子沉積系統ALD

                                              簡要描述:*原子沉積系統ALD,源于*的技術。是一種能以原子級精度將薄膜覆蓋沉積到各種基底上的方法??梢愿鶕蛻舨挥玫膽眠x擇不同的配置,價格優,性能好。

                                              • 產品型號:IPS
                                              • 廠商性質:生產廠家
                                              • 更新時間:2021-03-30
                                              • 訪  問  量:1498

                                              詳細介紹

                                              給我們留言

                                              原子沉積系統ALD

                                              標準型(Standard )設備

                                              價格低、質量高、可任選附件進行搭配

                                              結構簡單,操作方便,后期維護簡單易行

                                              用途廣,適合各種基底材料

                                              原子沉積系統ALD ——擴展型(Flexivol)設備

                                              腔室體積可根據用戶樣品的尺寸靈活調節,同一腔室可通過簡單的調節適用于不同厚度的樣品

                                              增多前驅體源入口數目,避免腔室體積增大對前驅體化學源氣氛分布的影響

                                              ALD原子層沉積系統——高度定制化(Non-Standard)設備

                                              為工業客戶提供薄膜沉積方案

                                              放大基于標準研究型設備檢驗的相同技術

                                              根據客戶的特殊需求,加工定制,滿足特殊應用及大規模的生產需要

                                              研發(R&D)服務

                                              開發新的薄膜沉積方案

                                              診斷、改進現有ALD的工藝

                                              為潛在的客戶做覆膜演示

                                              薄膜沉積工藝咨詢

                                              原子層沉積系統ALD技術參數

                                              不銹鋼材質腔室,根據客戶樣品尺寸有不同的腔室直徑(D < 200 mm, D = 200 mm, D > 200 mm)和高度(H = 20 mm, H = 50 mm)可選;前驅體進樣系統標配四路(包含冷和熱兩種前軀體),可配至八路

                                              前驅體進樣系統配有快速氣動閥門

                                              多段溫度控制

                                              前驅體溫控0-200 °C,精度1 °C

                                              腔室溫控0-300 °C ,精度1 °C

                                              進出腔室管路溫控0-150 °C ,精度1 °C

                                              基本壓強 10^−1/10^−3 mbar

                                              設備尺寸 1000x600x1000 mm

                                              觸控控制系統

                                              系統當前狀態信息顯示:氣流速度、溫度、壓力和閥門開度等

                                              工藝監控:溫度和壓力等

                                              偏差報警和安全鎖

                                              菜單操作,實時監控

                                              可增配選項

                                              等離子體發生器    借助等離子化的氣態原子替代水作為氧化物來增強ALD性能

                                              臭氧發生器         提供強氧化劑,增大ALD生長的前驅體選擇范圍

                                              石英晶體微天平    在線監測薄膜沉積的厚度

                                              愛譜斯中國有限公司是一家專業儀器制造及銷售公司,公司業務主要為進口儀器設備,涉及化學,材料,環境,生命科學等各個學科。公司始終把客戶的需求與產品質量放在*,專業的售后服務團隊,歡迎廣大客戶咨詢!

                                               

                                               

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